直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0!24um线性膨胀，所以必须有±0！1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多.相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故.相对湿度在50%时易生锈!此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除!

　　在垂直流系统中，气流是从吊顶流向地面。对要求洁净室的悬浮粒子浓度或微生物浓度更低的场合，就使用单向气流.以前称这类洁净室为“层流”洁净室!单向流和层流的名称均说明了其气流的状况：气流以一个方向流动（或是垂直的或是水平的），并以一般是0！3米/秒至0！5米/秒（60英尺/分钟至100英尺/分钟）的均速流过整个空间.由满布洁净室吊顶的过滤器向室内送风！气流有如一个空气活塞，向下流经室内，带走污染物，然后从地面排出.

　　这就决定乱流洁净室的流态实质是：突变流；非均匀流.这比用紊流来描述乱流洁净室更确切。紊流主要决定于雷诺数，也就是主要受流速的影响，但是如果采用一个过滤器顶送的送风形式，则即使流速极低，也要产生上述各种结果，这就因为它是一个突变流和非均匀流。因此这种情况下不仅有流层之间因紊流流动而发生的掺混，而且还有全室范围内的大的回流、旋涡所发生的掺混。单向流洁净室单向流洁净室一般有两种类型，即水平流和垂直流。在水平流系统中，气流是从一面墙流向另一面墙。

　　吹过水平面的气流速度（例如侧送时回流速度）不宜太大，以免吹起表面微粒重返气流，而造成再污染，这一速度一般不宜大干0.2m/s.乱流洁净室乱流洁净室的主要特点是从来流到出流（从送风口到回风口）之间气流的流通截面是变化的，洁净室截面比送风口截面大得多，因而不能在全室截面或者在全室工作区截面形成匀速气流！所以，送风口以后的流线彼此有很大或者越来越大的夹角，曲率半径很小，气流在室内不可能以单一方向流动，将会彼此撞击，将有回流、旋涡产生.

口碑好的净化工程生产厂家

　　本规范有关防火和疏散、消防设施章节的规定，不适用于建筑高度超过24米的高层洁净厂房和地下洁净厂房的设计。在利用原有建筑进行洁净技术改造时，洁净厂房设计必须根据生产工艺要求，因地制宜、区别对待，充分利用已有的技术设施！洁净厂房设计应为施工安装、维护管理、测试和安全运行创造必要的条件!洁净厂房设计除应按本规范执行外，尚应符合现行的标准、规范的有关要求。行业分布电子厂房食品加工药品加工计算机中心精密仪器航天检验检疫净化工程是指控制产品(如硅芯片等)所接触大气的洁净度及温湿度，使产品能在一个良好的环境空间中生产、制造！

　　此环境空间的设计施工过程即可称为净化工程!洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感！随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小！例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小!