传统的干涉测距法都是待测目标移动产生的和参考光路不同的光程差，产生干涉现象！而除了光路长度的改变，在恒定路径下激光波长的改变也会导致信号的干涉调制！通过激光器控制扫描波长，控制引入多个波长变化，这样避免了静态状态下的相对误差！这种方法称为“干涉光谱学”.“干涉光谱法”与饱和吸收室(GC)结合使用可以实现jue对距离的测量!昊量光电新推出的皮米精度位移干涉仪quDIS通过将可调激光器的频率锁定到F-P干涉仪的的谐振频率上，将干涉仪的位移测量转换为频率变化的测量。

　　当F-P腔长在变化时，其谐振峰的频率也在发生变化，通过测量初始腔长，初始频率和频率变化，就可实现测量腔长。可调激光器的频率变化可通过与一个稳频激光器进行拍频来测量！因这种方式将位移变化转换为了频率变化，只要保证频率变化为线性变化，就可以避免干涉仪的非线性误差对测量结果的影响！同时其理论分辨率低可达到1pm！昊量光电新推出的皮米精度位移干涉仪quDISjue对距离测量方式就是基于上文中提到的“拍频”的方式，通过将内部参考腔锁频，使其频率和腔长保持恒定，这样，通过测量频率变化，就可以知道实时的腔长，也就是jue对距离。

　　用于测量高温漂移物体的传感器头的设计镍铁合金制造的低热膨胀系数准直头环境测试模块（AMU）环境测试模块（AMU）设计用于补偿由温度T、压力p和相对湿度rH波动引起的折射率变化，总体精度为1ppm！频率扫描jue对测距法：频率扫描jue对干涉测距技术是一种无需靶标或标记点、能够快速测量漫反射体表面信息并且测量精度很高的测距方式，因此得到了人们的广泛关注！德国qutools公司新推出的皮米级别位移干涉测量仪quDIS便是基于上述频率扫描原理的干涉仪！

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　　此外，quDIS不仅可以获得位置、速度和加速度等信息，折射率、反射率或表面倾斜度等信息也可以从实时信号中提取得到.du特的法珀腔+饱和吸收气室构造波长的线性变化的引入在此构造下使得jue对距离的测量成为可能!干涉传感头激光束的成型是通过不同的传感器头来实现的，根据反射目标的不同，不同的应用都需要不同的准直、聚焦和光束剖面约束.quDIS的传感器头均基于光纤设计.quDIS为常规情况下的使用提供标准准直仪和定焦传感头，同时根据具体的需要以及恶劣环境下的应用，也设计了响应的特殊传感头.

　　工作距离大至5m（与传感头相关）目标速度＜3m/s三个传感接口，可实现多设备同步探测器分辨率达到1pm应用领域：极限环境下振动分析缓慢漂移及热膨胀检测精密设备位置控制纳米级位移测量层状结构中间隙和边缘的测量位移和振动精度评估皮米精度位置测量仪参数列表：干涉仪传感头光源DFB激光器分辨率1pm功率400uW相对距离稳定性0。05nm波长1535nm相对对距离精度0.2nm/mm线宽5MHz带宽25kHz传感器通道3工作距离20-5000mm光纤输入端口FCNarrow-Key-Slot目标速度3m/sMatingSleeves传感头真空低温同步多台设备同步大量程、高精度的jue对距离测量方法主要分为两类：一类是相干测量，另一类是非相干测量。

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　　相干测量主要包括多波长干涉测量、线性调频干涉测量以及基于光学频率梳的测量方法。非相干测量则主要包括飞行时间法和相位测距法，飞行时间法通过测量激光信号在测量端与目标端的飞行时间来计算被测的距离，测量距离大，可以达到几十千米；相位测量法通过对激光光强进行正弦调制，然后通过测量目标端与测量端的相位差来计算被测距离，本质上是将飞行时间转化为相位差进行测量，这种方法在大距离测量的时候由于环境因素的影响会导致回光能力的迅速衰减从而引起较大的测量误差，一般zui高只能达到0！

　　皮米精度位移激光干涉仪（可试用）昊量光电推出的皮米精度位移干涉测量仪quDIS是对纳米级别的位移波动进行量测的理想仪器，基于其du特的测量原理，相对距离的重复精度达到了前所未有的50皮米。quDIS可同时支持三个测量通道，使其可以适用于任意的多轴测量中.quDIS在原理上同样采用激光干涉法，不过与传统激光干涉仪相比，其集成了法珀腔（参考腔）及饱和吸收气室（GC）作为频率校准参考，通过激光波长调谐扫描，比较两种不同的干涉图样，可以实现其它设备所不具有的jue对距离测量，基于这种测量方式，使得quDIS相对其他产品测量距离可以达到5M的同时保持高精度，且与信号对比度和强度无关，由于使用整个干涉模式来提取位移信息，因此不存在非线性误差！　　事实上，在宏观经济狂热的2006年和2007年，“中国芯”的问题已经显现。中国半导体行业协会理事长俞忠钰表示，2002－2006年国内集成电路设计业销售收入由2002年的21.6亿元扩大到2006年的186.2亿元，4年翻了3番，年均复合增长率达到71.3%，为同期全球最高。但自2007年开始，国内IC设计业整体发展速度明显放缓，深层次矛盾日益暴露：国内有近500家设计企业，企业小而散，全部销售额不及世界排名前几位设计公司一个公司的营业额；多数企业开发的IC产品方向窄，档次低，企业间产品同质化竞争空前激烈；许多企业运营模式“偏科”，商业模式不适应设计企业需要。近期更受到了此次金融危机的严重冲击，整合重组迫在眉睫。