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  • 产品名称:表面波等离子体源微波头_射频仪器仪表供应商-欣源科技(北京)有限公司
  • 产品价格:100000.00
  • 产品数量:9999
  • 保质/修期:1
  • 保质/修期单位:
  • 更新日期:2021-01-03
产品说明

欣源科技SYNERCE代理法国SAIREM产品系列,包括: 微波发生器(微波电源)2.45GHz系列、微波发生器(微波电源)915MHz系列、等离子体源(Plasma Sources、微波头)、微波化学系列MW Chemistry、射频发生器(RF发生器、射频电源)、用于等离子体的直流电源DC系列、微波等离子体专用水冷机系列 (301)Downstream 等离子体源 这种表面波的等离子体源产生等离子体,在一个标准的WR340波导中(直径20-60毫米)。这种等离子体源可以根据压力、微波功率和等离子气体的性质,使长等离子体的点火和维持。 压力范围:10-2mbar到大气压力 气体类型:Ar,N2,O2,空气,…… 大功率:6kW 应用类型:自由基/反应性物种的产生,表面激活,PECVD,查表面波等离子体源微波头,气体减排,气化,灭菌(UV),纳米粒子合成 (302)Sur-fa-guide 等离子体源 压力范围:mbar到atm 主要用于:气体减排、气化、灭菌、纳米粉合成、表面活化、大气高温化学 (303)AURA W-A-V-E 同轴ECR等离子体源(低压等离子体) KF/CF法兰,氟橡胶密封圈/无氧铜密封圈,搭配固态微波发生器,可组成阵列 (304)HI- W-A-V-E 同轴碰撞型等离子体源(中压等离子体) KF/CF法兰,氟橡胶密封圈/无氧铜密封圈,搭配固态微波发生器,可组成阵列 (305)S- W-A-V-E等离子体源(Sur-face W-A-V-E plasma source 表面波等离子体源,搭配固态微波发生器),主要特点: 频率2450MHz±50MHz 大微波功率200W 集成到DBD点火系统(Dielectric Barrier Discharge介质阻挡放电点火系统) 压力范围10-2mbar到大气压 Ar和基于Ar基混合物可在1atm下使用 所有气体都可在更低压力下使用 直径6或8毫米的电介质管 Swagelok 6mm气体连接器 主要应用领域:表面活化、元素分析、原子层沉积、气体减排、分子激活/物质活化、杀菌消毒、减少细菌附着、慢性伤口和受感染皮肤的治疗 Plasma Sources 等离子体源系列 法国SAIREM公司是拥有40多年的微波和射频工程经验的高科技公司,可为用户定制电子设计、应用开发、工艺设计和生产标准化的微波、射频、直流发生器、等离子体源等相关产品。 微波技术在等离子体实验室和工业中不断发现新的应用,这是由于微波等离子体的许多优点,例如,欣源科技(北京)有限公司,表面波等离子体源微波头,欣源科技(北京),超密度等离子体-离子和活性物种,电极更少,在各种压力下的操作。微波辅助等离子体在金刚石沉积、表面活化、杀菌、纳米材料合成、气体净化等方面的应用。 为了满足这些复杂技术所要求的越来越苛刻的要求,我们已经开发出了自己的等离子体源和反应器。 我们可以提供关于选择等离子设备和适合你需要的微波频率的建议,表面波等离子体源微波头,还可根据要求提供特殊配置,并且乐于帮助开发您自己应用的设备。 主要应用领域: 分析 金刚石沉积 表面清洗 蚀刻 防止污染 化学合成

  厚度在100-1000nm的聚合物薄膜可用等离子聚合反应、电子束和有机蒸气紫外线(UV)照射制备。但现代电子工业应用要求膜的厚度为30nm或更薄。1993年,Senda等在射频辉光放电条件下,制得了沉积在电子级n-型硅晶片上、无针孔、厚度仅为2—10nm的超薄碳氢聚合物薄膜。所用设备为大容量耦合射频放电等离子体反应器,以纯碳氢化合物蒸汽(如乙炔)或碳氢化合物/氩混合气作为原料气,放电频率为13.56MHz,压力66.7-106.7Pa。原料气在等离子体区域的停留时间为5-70ms,薄膜性质与气体的流量、样品位置和放电经历有关。经原子力显微镜(AFM)观察沉积膜的形状,证实薄膜表面非常光滑且无针孔。膜沉积速率可达0.15-0.3nm/s。因此,无论从基础研究还是从应用的角度来看,超薄聚合物薄膜的研究都具有潜在的巨大应用价值。


供应商信息
欣源科技(北京)有限公司
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公司地址:北京市海淀区信息路甲28号D座06A-6331
企业信息
联系人:王少鹏
手机:13701223713
注册时间: 2016-07-21

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邮箱:13701223713@139.com

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