描电镜分辨率：小于2nm主要特点：1!采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2！出色的电子束偏转控制技术3!采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（addresssize)可达0!0012nm4！采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.01mrad5.应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix&Match），图形线宽和图形位移测量等!

　　型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB！其中CABL-9000C系列小线宽可达8nm，小束斑直径2nm，套刻精度20nm(mean2σ)，拼接精度20nm(mean2σ).欣源科技SYNERCE代理日本CRESTEC公司的电子束光刻系统，又称作电子束曝光、电子束直写、EBL、E-BeamLithography等.

　　 欣源科技（北京）有限公司，位于北京市海淀区信息路甲28号D座06A-6331。公司主营其他未分类行业，如何了解{推广产品}产品信息详情请拔打热线：13701223713少鹏。

　　电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)电子束直写系统、电子束曝光系统CABL-9000Cseries30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统.

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　　 欣源科技（北京）有限公司主营：电子束光刻EBL等等产品，涉及其他未分类等等行业。 公司实力雄厚，重信用、守合同、保证产品质量，以多品种经营特色和薄利多销的原则，赢得了广大客户的信任。 多年来致力于其他未分类，拥有众多的专业人才，并通过多年以来不断的积累，在业界形成良好的口碑。 售后方面也赢得了用户的一致好评。您的满意是我们一直前进的动力。

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　　包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸如有任何需求和相关问题，敬请电话或邮件垂询。技术参数：1！小线宽：小于10nm（可实现8nm)2.加速电压：5-50kV3。电子束直径：小于2nm4!套刻精度：20nm(mean2σ)5!拼接精度：20nm(mean2σ)6.加工晶圆尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option)7.

　　==================================超高分辨率电子束光刻EBLUltrahighResolutionEBLithography(CABL-UHseries)纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一!日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统。 微波预热热空气硫化法 微波预热热空气硫化法是压出制品首先采用微波预热，然后让其进入热空气管道中进行硫化。微波一般是指频率在300至30000MHz之间的电磁波，只需要30到40s就能够使胶料的温度从90℃上升至190℃。微波预热热空气硫化法能够用于厚制品的硫化。高频微波硫化法也能够用于厚制品的硫化。具有占地少、频率高和制品清洁等优点，适用于各种尺寸与断面构型复杂的制品。可以用于胶管、胶带以及电线等的连续硫化。 电子束辐照连续硫化 是通过电子束装置发射的高速电子束辐照橡胶半成品，使胶料离子化、活化，并产生交联反应。 优点：可在常温下快速连续地进行硫化；交联程度可通过调整电子束的能量来实现，且操作简便。 电子束辐照硫化可用于多种制品，如轮胎、胶管、电线和防水卷材等。还可采用电子束辐照对胶料进行轻度预硫化，从而保证其成型挺性。